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ISO 23812:2009

$36.40

Analyse chimique des surfaces — Spectrométrie de masse des ions secondaires — Méthode pour l’étalonnage de la profondeur pour le silicium à l’aide de matériaux de référence à couches delta multiples

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ISO 2009-04 26
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L'ISO 23812:2009 spécifie un mode opératoire permettant l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples.

Elle ne s'applique pas à la région transitoire superficielle où la vitesse de pulvérisation n'est pas en régime permanent.

Elle s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.

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